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GZR-20全自动硅片制绒设备

GZR-20全自动硅片制绒设备图片

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信息简介:GZR-20全自动硅片制绒设备

详细信息:
“GZR-20全自动硅片制绒设备”参数说明
是否有现货: 品牌: GST
适用范围: 信息电子仪器仪表 分类: 工业仪器仪表
类目: 硅片制成 型号: Gzr-20
规格: About 15000mm×1400mm 商标: Gst
包装: 集装箱 产量: 100
“GZR-20全自动硅片制绒设备”详细介绍
1.?名称/Name/:槽式清洗制绒设备Slot type cleaning and texturing equipment
?型号/Model:GZR-202.
?用途/Application:用于多晶硅和单晶硅电池片生产,扩散前的绒面腐蚀和清洗。
used for the production of polycrystalline and monocrystalline silicon cell and for the corrosion and cleaning before diffusion.
?单晶硅/monocrystalline silicon:
3.2工艺控制/Process Control:
3.2.1 传输方式/Transmission Mode:两套悬臂式机械手方式移动。
Two set of cantilever type mechanical arm handling
3.2.2 工艺时间可调/Process time adjustable;
3.2.3?生产数量及要求/Production Quantity and Requirement:硅片尺寸/Dimension of Silicon Wafer: 156mm×156mm;
? ?产能/Capacity : 3000片/小时;3000 pieces/hour
3.3保护功能/Protection Function:3.3.1限位报警/Limit alarm;
3.3.2溶液过温报警/Solution over-temperature alarm;
3.3.3低液位报警/Low liquid level alarm;
3.4能显示各个工位的工作状态。Be able to show the working state of each station.
3.5 具有设备报警说明,报警历史查询功能。对清洗用纯水有电阻率监测装置,能存储10个以上工艺方案;Have device alarm instruction and history inquiry function of alarm. The electrical resistivity monitoring device for pure water of cleaning usage can save more than 10 process proposals.
4. 设备技术参数/Technical Parameter
4.1清洗工件/Cleaning Workpiece
4.1.1 清洗对象/Cleaning Object: 156mm×156mm (±0.5) of silicon wafer
4.1.2 清洗数量/Cleaning Number:200片/批次(4个标准50片式盒)200 piece/lot (4 standard 50-piece type boxes)
4.2设备动力设施和环境条件要求/Equipment Power Device and Environmental Condition Requirements:
4.2.1 电源/Power Source:三相四线380V±10%、50Hz、额定电流小于60A ;3 phase 4 wires 380V±10%, 50Hz, rated current less than 60A
4.2.2 去离子水/Deionized Water:流量均值/flow mean value 100L/min,峰值/peak value160L/min 压力大于3kg/cm2;Pressure larger than 3kg/cm24.2.3 压缩空气Compressed Air:进口压力/inlet pressure(0.5~0.7)MPa;
4.2.4 氮气/Nitrogen:进口压力/inlet pressure(0.2~0.4)MPa;
4.2.5排水管/Drain Pipe 6-Φ110,排液管/Bleeder Tube Φ40;
4.2.6排风口/Air Outlet:6-Φ250mm。

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